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PVD镀膜工艺原理及应用有哪些？真空镀膜技术中常用的方法有蒸发镀膜（包括电弧相应的化学气相沉积（CVD）称为CVD技术。该行业俗称“IP”（离子镀）离子镀层，因为在PVD技术中，各种气体离子和金属离子参与成膜过程并发挥着重要作用，为了强调离子的作用，统称为离子镀膜。以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。


真空镀膜技术的特点：真空镀膜性能优良：真空镀膜厚度远小于电镀层，但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好，孔隙率低，而且无氢脆现象，相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。束流沉积镀，结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术，是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料，在比较低的基片温度下，形成具有良好特性薄膜的技术。


真空镀膜基础知识：一、镀膜作业步骤：准备工作。1.镀膜前洗净。2.抽检镜片外观确认(裂边，伤痕，不洁)情况，全检镜片锁板情况(镜片倾斜。3.确认好准备镀膜的镜片(数量，机种，面别)并做好相应记录。真空镀膜技术可以实现不能通过电沉积方法形成镀层的涂覆：如铝、钛、锆等镀层，甚至陶瓷和金刚石涂层，这是十分难能可贵的。


真空镀膜就是以磁场束缚而延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿，因为一般基片与真空室及阳极在同一电势。物***相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。