桥头pvd真空镀膜厂免费咨询「泰坦金属」

什么是真空镀膜技术？主要分为以下几类：蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。该薄膜是真空制备的，包括结晶金属、半导体、绝缘体等单一物质或复合膜的镀膜。虽然CVD也采用减压、低压或等离子体等真空方法，但真空镀膜一般指的是物理方法沉积薄膜。真空镀膜有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀三种形式。

真空镀膜就是以磁场束缚而延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量.电子的归宿不仅仅是基片,真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿,因为一般基片与真空室及阳极在同一电势.磁场与电场的交互作用(EXB drift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状,而不是仅仅在靶面圆周运动.pvd真空镀膜厂

真空镀膜是真空应用领域的一个突破性技术，利用物理或者化学方法并吸收一系列新技术而成的工艺，目的就是为了在实际生产中为产品创造薄膜保护层。工艺主要分为真空蒸镀、磁控溅射镀膜、离子镀三种。

PVD真空镀膜具有的附着力和耐久力–可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落。其它的技术，包括电镀，喷涂等都不能与其相比。任何能够想象出的设计图案都可以蚀刻出来/在内装修或者室外装修都可以使用，、抗腐蚀能力强。pvd真空镀膜厂

真空镀膜的工艺流程一般依次为：前处理及化学清洗（表面打磨抛光喷砂，除锈除油去氧化层）→工件在真空中烘烤加热→离子辉光清洗→金属离子轰击→镀金属过渡层→镀膜（通入反应气体）→后处理（炉内钝化或出炉后钝化去应力或防止变色，过UV做防指膜处理等）。

真空离子镀膜技术——对***和生态环境真正无害，绿色环保。

PVD真空镀膜可镀IPG浅金、IP金色、IP炉内玫瑰金、IP咖啡色、IP铬、IP***、棕色、IP黑、色等。

pvd真空镀膜厂

PVD镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。