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请问PVD镀膜的具体原理是什么？离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。

环境效益优异：真空镀膜加工设备简单、占地面积小、生产环境优雅洁净，无污水排放，不会对环境和操作者造成危害。在注重环境保护和大力推行清洁生产的形势下，真空镀膜技术在许多方面可以取代电镀加工。化学气相沉积(CVD)。它是以化学反应的方式制作薄膜，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附，在基片上产生化学反应形成核，随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。

　　PVD镀膜技术是一种环保的表面处理方法，可以真正获得微米级电镀，无污染，可以制作各种单一的金属膜(铝、钛、锆、铬等)、氮化膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)、碳化膜(TiC、TiCN)、氧化膜(TiO等)。

　　PVD镀膜可镀膜层的颜色是什么?

　　我们现在能做的膜层颜色有IP金色(IPGIN18、IPGIN14)、IP玫瑰金、IP黑色、IP颜色、IP铬颜色、IP咖啡颜色和各种颜色的IP间颜色加工。通过控制电镀过程中的相关参数，可以控制电镀颜色的电镀结束后，可以用相关设备测量颜色值，定量颜色，确定电镀颜色是否满足要求。

五金镀膜加工

真空镀膜技术在镀膜工业中的应用：在电子学方面真空镀膜更占有重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件（CCD）也都甬道各种薄膜。请问PVD镀膜膜层的厚度是多少？PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm。