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什么是真空镀膜技术？主要分为以下几类：蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。该薄膜是真空制备的，包括结晶金属、半导体、绝缘体等单一物质或复合膜的镀膜。虽然CVD也采用减压、低压或等离子体等真空方法，但真空镀膜一般指的是物理方法沉积薄膜。真空镀膜有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀三种形式。


离子镀：正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。


真空镀膜技术一般分为两大类：物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。真空蒸镀，其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。真空镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，


真空镀膜材料与湿式镀膜材料的区别：塑料薄膜采用真空镀的方法加镀铝等金属膜，再进行染色，即可得到用于纺织工业中的金银丝等制品，或用于包装工业中的装饰品。请问PVD镀膜与传统的化学电镀(水电镀)相比有何优点？两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定。