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环境效益优异：真空镀膜加工设备简单、占地面积小、生产环境优雅洁净，无污水排放，不会对环境和操作者造成危害。在注重环境保护和大力推行清洁生产的形势下，真空镀膜技术在许多方面可以取代电镀加工。化学气相沉积(CVD)。它是以化学反应的方式制作薄膜，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附，在基片上产生化学反应形成核，随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。

真空镀膜

1.通过真空镀膜获得的金属膜层非常薄（通常为0.01?0.1um），可以严格啤酒表面的形状。

2.工作电压不是很高（200V），操作方便，但设备较昂贵。

3.蒸发锅体积小，电镀件数量少，生产效率低。

4.比较适合于熔点比钨丝低的金属镀层（例如铝，银，铜，金等）。

真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的，晶体的大小、形状及摆放方法抉择着镀层的布局特性。在各种不一样的电镀液中，金属镀层的布局特性也是不一样的，主要是堆积进程不一样所构成的。开始电镀时，基体材料外表主要生成一些纤细的小点，即结晶核，跟着时刻添加，单个结晶数量添加，并相互衔接成片，构成镀层。

　　PVD镀膜技术是一种环保的表面处理方法，可以真正获得微米级电镀，无污染，可以制作各种单一的金属膜(铝、钛、锆、铬等)、氮化膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)、碳化膜(TiC、TiCN)、氧化膜(TiO等)。

　　PVD镀膜可镀膜层的颜色是什么?

　　我们现在能做的膜层颜色有IP金色(IPGIN18、IPGIN14)、IP玫瑰金、IP黑色、IP颜色、IP铬颜色、IP咖啡颜色和各种颜色的IP间颜色加工。通过控制电镀过程中的相关参数，可以控制电镀颜色的电镀结束后，可以用相关设备测量颜色值，定量颜色，确定电镀颜色是否满足要求。

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